光刻机是制造芯片的核心设备，其工作原理就像是“投影”和‘曝光’，通过精密的光学系统和控制技术将电路图案转移到硅片上。
陈望想要大规模制造芯片，那么光刻机就是绕不过去的门槛。
让陈望惊喜的是这时候国内的光刻机发展并没有他想象中的那么落后，虽然与国外先进水平相比肯定有一定的差距，但却已经能独立生产制造光刻机。
这个消息还是四机部阮司长告诉陈望的，就在前两个月海市光学机械厂成功研制出了华国的第一台接触式光刻机JKG-3型。
而且这台光刻机从光学系统、精密机械、对准技术到光刻胶等配套材料，华国都实现了自主研发，是一条完全独立、不受外部制约的技术路线。
陈望当时听到这里的时候有些奇怪，在决定研发光刻机的时候他查阅过小才给的国外光刻机发展的公开资料。
光刻机如果按照曝光方式区分，目前为止光刻机的发展可分为接触式、接近式、投影式三种。
现在国际上最先进的方向是投影式光刻机，但他们国家在接近式光刻机上也有了一定的研究成果。
所以他们国家的光刻机制造水平虽然不是一流，但也算得上是二流水平。
而且就单从分辨率上来说差距就要更小一些了，分辨率是指光刻机能够在晶圆上清晰区分并形成的最小物理尺寸，也是芯片的最小线宽或者最小特征尺寸。
分辨率的数值越小光刻精度越高，现在分辨率的数值一般都是以毫米为单位，但陈望上辈子死的时候已经以纳米为单位了。
从小才提供的资料来看，目前国际上最先进的芯片就是3微米制程的，但他们也已经能制出5-10微米的芯片。
这种差距也就五六年的差距，那怎么越发展差距还越大了呢，以至于到了八九十年代已经有了快10年的差距！
所以陈望还是挺奇怪的，不过现在不是分析原因的时候，既然国内已经有了自主研发的接触式光刻机，那么他只要在这基础上改进成接近式光刻机就行了。
接近式光刻机的分辨率极限就是3左右微米，这用来制造蜂窝移动通信的芯片组已经够了。
至于投影式光刻机。
陈望看了一眼已经设计好的图纸和列举出来的
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