”。
示范线的建设进度，在一种前所未有的、充满张力和创造力的氛围中，稳步而高效地推进着。
主设备安装调试接近尾声，核心的PECVD（等离子体增强化学气相沉积）区域成为焦点。
巨大的PECVD设备如同银灰色的钢铁巨兽，多个沉积腔室排列整齐，用于在硅片表面生长关键的无机介质薄膜。
这是芯片内部绝缘和钝化的核心环节，薄膜的质量和均匀性直接决定器件可靠性和良率。
负责PECVD区域调试的，是一位名叫林薇的女工程师，同样海归背景，技术精湛，作风严谨细致到近乎苛刻。
她一丝不苟地按照手册流程进行着腔体清洁、射频电源校准、气路保压测试。
每一次测试的数据都被她详细记录，并与手册基准线进行严格比对。
周文兵则带着一个小组，重点“盯防”这台关键设备。
他们利用一台高精度的便携式残余气体分析仪，这是王晓军费尽心思从王院士团队借来的“宝贝”，可以实时监测腔体内部极其微量的异常气体成分。
“林工，主腔体真空度达标，基础本底谱正常。”林薇看着屏幕，一丝不苟地汇报。周文兵凑在RGA的屏幕前。
花白的眉毛却微微皱起，指着上面一个极其微小的、几乎淹没在本底噪声中的水分子特征峰：“等等！这水汽的尾巴…好像比上次抽完真空后，高了那么一丁点儿？虽然还在手册允许的范围内…”
林薇看了一眼，不以为意：“周师傅，这个峰值远低于警戒线，手册明确标注属于正常本底波动范围。
我们已严格按照规程进行了48小时高温烘烤除气。气路保压测试也完美通过，泄漏率远优于标准。
我认为可以开始工艺气体通入和射频点火测试了。”她的语气带着不容置疑的专业自信。
周文兵盯着那个小小的峰，又侧耳听了听设备内部真空泵持续运行的嗡鸣声，那种低沉中似乎夹杂着极其细微的、不和谐的嘶嘶声，若有若无。
他心头那点不安如同投入水中的墨滴，非但没有消散，反而隐隐晕开。他转向王晓军，低声道：“老王，这‘嘶嘶’声…不对劲儿。
还有这水汽尾巴…虽然小
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