进行开发研究。」
在他们眼中，海外的昨天晚上的操作，更像是对极紫外光源研究成果的认可。
属于一种荣誉勋章。
说明确实是非常重要的研究成果。
否则海外的反应，也不会如此迅速如此大。
伴随著两位院士依次发表完意见，成功给今天会议定下了氛围基调，能够看到现场每个人脸上，听完后所浮现出来的淡淡笑容。
这时坐在老师右手旁的潘耀，同样没有保持沉默。
缓缓抬起视线看向坐在主座的徐铭，把话题引到这位年轻的总设计师身上。
「多亏了徐总师，带领我们拿下极紫外光源，否则纵使再有两年时间，恐怕也解决不了光刻机的核心光源系统。」
「今早我看网上大家的评论，几乎全在支持徐总师。」
全程暂时充当听客的徐铭，看到潘耀主动聊自己，忙摆了摆手谦逊应声。
「关于极紫外光源的实验验证结果，能取得这么大突破也离不开大家，不过针对此次海外采取的措施，我们必须要重视起来才行。」
「针对国产EDA的开发，以及光刻胶研究，同样需要加快研发进程。」
徐铭早上便听说了这件事情，对于海外方面的反应速度也颇为意外，不过倒完全在预料范围之内。
毕竟海外连晶片和半导体设备都已限制，哪还用在意设计软体和光刻胶。
「这个确实要重视。」贺鹏涛闻言当即点头认可。
丁顺安则接话道：「EDA和光刻胶，都属于晶片制造产业链中，不可或缺的重要一环，如果这两项无法同步解决，就算我们成功研发出先进的极紫外光刻机，照样无法让其发挥出作用。」
徐铭因在等离激元耦合态理论上的设想，为获得稳定极紫外光源找到了新方法。
这才阴差阳错担任了总设计师。
所以最开始的目标，便是研发出极紫外光刻机。
但眼下面对当前的局势，以及两位院院士意见，不得不对后续任务安排进行调整。
「贺院和丁院说的没错。」
他先是对贺鹏涛和丁顺安的话表达了认可，接著又详细讲出自己的想法。
「目前我们已成功掌握，稳定50瓦极紫外光源，材料研究院那边正在研发多环结构光源靶
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